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口頭

Si(111)表面酸化における準安定吸着酸素分子の解離反応キネティクス

西本 究*; Tang, J.*; 小川 修一*; 吉越 章隆; 石塚 眞治*; 渡辺 大輝*; 寺岡 有殿; 高桑 雄二*

no journal, , 

Si(111)7$$times$$7表面酸化では準安定吸着酸素分子が長い寿命をもち、Si(001)2$$times$$1表面酸化とは顕著に異なる酸化反応様式を示す。本研究ではSi(111)7$$times$$7表面室温酸化過程におけるO$$_{2}$$$$^{*}$$の挙動を解明するために、酸素吸着曲線,仕事関数,バンドベンディング,酸素原子とSi原子の化学結合状態を光電子分光によりリアルタイム観察した。それらの観察結果の相関から、初期酸化途中でO$$_{2}$$供給停止後のSi(111)表面酸化状態変化について詳しく検討した。Si表面のアドアトムに吸着したO$$_{2}$$$$^{*}$$は解離して内部に潜り込み、酸素吸着状態がpaul構造からins/tri構造に変化したと考えられる。

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